মূল প্রকার: RM, আনয়ন কারখানা (আল): 250nH, সহনশীলতা: ±3%, গ্যাপ: 3C95, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): RM 10 x 1,
মূল প্রকার: PLT, গ্যাপ: 3F46, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): PLT 14 x 5 x 1.5,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 22 x 6 x 16,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C92, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 58 x 11 x 38,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C94, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 32 x 16 x 9,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 58 x 11 x 38,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): PLT 32 x 20 x 3.2,
মূল প্রকার: RM, আনয়ন কারখানা (আল): 250nH, সহনশীলতা: ±3%, গ্যাপ: 3C97, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): RM 8,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C92, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 38 x 8 x 25,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3F36, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 14 x 3.5 x 5,
মূল প্রকার: ER, সহনশীলতা: ±25%, গ্যাপ: 3C95, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): ER 14.5 x 3 x 7,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C95, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 35 x 18 x 10,
মূল প্রকার: RM, আনয়ন কারখানা (আল): 400nH, সহনশীলতা: ±3%, গ্যাপ: 3C97, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): RM 12,
মূল প্রকার: ER, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): ER 64 x 13 x 51,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C97, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 32 x 6 x 20,
মূল প্রকার: PLT, গ্যাপ: 3C95, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): PLT 18 x 10 x 2,
মূল প্রকার: EP, সহনশীলতা: ±25%, গ্যাপ: 3F36, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): EP 20,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 43 x 10 x 28,
মূল প্রকার: PQ, সহনশীলতা: ±25%, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): PQ 32 x 30,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C92, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 22 x 6 x 16,
মূল প্রকার: EP, সহনশীলতা: ±25%, গ্যাপ: 3F46, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): EP 7,
মূল প্রকার: RM, আনয়ন কারখানা (আল): 100nH, সহনশীলতা: ±3%, গ্যাপ: 3F36, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): RM 7,
মূল প্রকার: Toroid, সহনশীলতা: ±30%, কার্যকর ব্যাপ্তিযোগ্যতা ()e): 39.80mm, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): TX 39 x 20 x 13,
মূল প্রকার: ER, গ্যাপ: 3F36, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): ER 41 x 7.6 x 32,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C95, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 42 x 21 x 20,
মূল প্রকার: ETD, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): ETD 34 x 17 x 11,
মূল প্রকার: EFD, আনয়ন কারখানা (আল): 63nH, সহনশীলতা: ±8%, গ্যাপ: 3C96, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): EFD 10 x 5 x 3,
মূল প্রকার: PQ, গ্যাপ: 3C97, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): PQ 32 x 20,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3F4, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 43 x 10 x 28,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3F4, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 38 x 8 x 25,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3F36, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 13 x 7 x 4,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C95, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 64 x 10 x 50,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C97, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 18 x 4 x 10,
মূল প্রকার: E, গ্যাপ: 3C94, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): E 25 x 13 x 7,
মূল প্রকার: RM, আনয়ন কারখানা (আল): 100nH, সহনশীলতা: ±3%, গ্যাপ: 3F46, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): RM 5,
মূল প্রকার: P, আনয়ন কারখানা (আল): 2.3µH, সহনশীলতা: ±25%, গ্যাপ: 3C90, কার্যকর ব্যাপ্তিযোগ্যতা ()e): 14.05mm, প্রাথমিক প্রবেশযোগ্যতা ()i): P 14 x 8,
